純化水設(shè)備的日常清洗要求
【無錫水處理設(shè)備http://m.cnd5.com】純水設(shè)備的作用是應(yīng)用在各種超純材料、試劑、實(shí)驗(yàn)室、生物實(shí)驗(yàn)、電子產(chǎn)品、生產(chǎn)和清洗等方面，可以說，目前大多數(shù)工業(yè)都需要凈水設(shè)備，有些特殊工業(yè)還會(huì)使用超純水、無菌水等，這些水質(zhì)都是通過純水設(shè)備來達(dá)到的。那么純水設(shè)備的清洗有哪些要求呢？
有明確的清洗方法及清洗周期；
明確關(guān)鍵設(shè)備的清洗和驗(yàn)證方法；
清洗工藝和清洗后檢查的有關(guān)數(shù)據(jù)應(yīng)作記錄并保存。
無菌設(shè)備的清潔，特別是與藥物直接接觸的部位和部件，必須消毒，并注明消毒日期，必要時(shí)進(jìn)行微生物檢驗(yàn)。消毒設(shè)備應(yīng)在三日內(nèi)使用。
某些活動(dòng)設(shè)備可以移至清潔區(qū)域進(jìn)行清洗、消毒和滅菌。
同一臺(tái)純水設(shè)備設(shè)備連續(xù)加工同一種無菌產(chǎn)品時(shí)，每批間應(yīng)清洗消毒；同一臺(tái)設(shè)備加工同一批非滅菌產(chǎn)品時(shí)，至少每周或每三批生產(chǎn)后，應(yīng)進(jìn)行全面清洗。凈化水的標(biāo)準(zhǔn)電阻率：≥0.5MΩ.CM，電導(dǎo)率：≤2μS，氨氮濃度≤0.3μg/ml，硝酸鹽濃度≤0.06μg/ml，重金屬濃度≤0.5μg/ml。純水設(shè)備，實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備, 無錫純水設(shè)備,無錫水處理設(shè)備，無錫去離子水設(shè)備, 醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。 半導(dǎo)體超純水設(shè)備。
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